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新型二维半导体

admin2年前 (2024-09-21)产业地产资讯76

  近年来,二维晶体材料因其优越的电气特性,成为半导体材料研究的新方向。继石墨烯、 二硫化钼之后,本月初,在《自然·纳米技术》杂志上,复旦大学物理系张远波教授课题组 发现了一种新型二维半导体材料——黑磷,并成功制备了相应的场效应晶体管器件,它将有 可能替代传统的硅,成为电子线路的基本材料。

  黑磷的原子结构图,褶皱蜂窝结构。 二维晶体是由几层单原子层堆叠而成的纳米厚度的平面晶体,比如大名鼎鼎的石墨烯。

  但是石墨烯没有半导体带隙,即分隔电子导电能带(导带)和非导电能带(价带)之间的无 人禁区,也就是说它难以完成导体和绝缘体之间的转换,不能实现数字电路的逻辑开与关。 而同样由单原子层堆叠而成的黑磷,则具有一个半导体带隙。

  单层原子厚度的石墨烯的发现,标志着二维晶体作为一类可能影响人类未来电子技术 的材料问世。然而二维石墨烯的电子结构中不具备能隙,在电子学应用中不能实现电流的 “开”和“关”,这就弱化了其取代计算机电路中半导体开关的用途。科学家们开始探索替 换材料,希望克服石墨烯的缺陷,并提出了几种可能的替换材料,如单层硅、单层锗,但这 些材料在空气中都不稳定,不利于实际应用。进一步探索具有新型功能并可实际应用的二维 材料具有十分重要的意义和挑战性。

  “两年前中国科技大学的陈仙辉教授告诉我他们可以生长黑磷时,当时直觉就告诉我, 这有可能是一个很好的半导体材料,”张远波教授说:“果然,现在我们把黑磷做成纳米厚度 的二维晶体后,发现它有非常好的半导体性质,这样就有可能用在未来的集成电路里。”他 们发现黑磷二维晶体有良好的电子迁移率(~1000cm2/Vs),还有非常高的漏电流调制率(是 石墨烯的 10000 倍),与电子线路的传统材料硅类似。

  除了电性能优越以外,黑磷的光学性能同包括硅和硫化钼在内的其他材料相比也有巨大 的优势。它的半导体带隙是直接带隙(如图),即电子导电能带(导带)底部和非导电能带 (价带)顶部在同一位置,实现从非导到导电,电子只需要吸收能量(光能),而传统的硅 或者硫化钼等都是间接带隙,不仅需要能量(能带变化),还要改变动量(位置变化)。这意味 着黑磷和光可以直接耦合,这个特性让黑磷成为未来光电器件(例如光电传感器)的一个备 选材料。可以检测整个可见光到近红外区域的光谱。

  直接带隙(左)和间接带隙(右)能带分布图。

  实验显示,当二维黑磷材料厚度小于 7.5 纳米时,其在室温下可以得到可靠的晶体管性 能,其漏电流的调制幅度在 10 万量级,电流—电压特征曲线展现出良好的电流饱和效应。 晶体管的电荷载流子迁移率还呈现出对厚度的依赖性,当二维黑磷材料厚度在 10 纳米时, 获得蕞高的迁移率值大约 1000 平方厘米每伏每秒。这些性能表明,二维黑磷场效应晶体管 在纳米电子器件应用方面具有极大的潜力

  这些初步的研究结果,远没有达到黑磷性能的极限,还有极大的拓展空间。张远波教授 表示,黑磷还只是一个刚刚被发现的材料,现在其前景作任何的推断都还太早。“这个材料 的很多特性还有待发掘。我们实验室将继续探索这些特性,并且希望能在现在的基础上进一 步提高样品的质量。”张远波教授说:“我们正在尝试的另外一件事是看看能不能把黑磷解离 到单原子层。单原子层的黑磷会有什么不一样的性质?现在还没有人知道。”

  名词解释 纳米电子器件:以纳米技术制造的电子器件,其性能大大优于传统的电子器件: . 工作速度 快,纳米电子器件的工作速度是硅器件的 1000 倍,因而可使产品性能大幅度提高。功耗低, 纳米电子器件的功耗仅为硅器件的 1/1000。信息存储量大,在一张不足巴掌大的 5 英寸光 盘上,至少可以存储 30 个北京图书馆的全部藏书。体积小、重量轻,可使各类电子产品体 积和重量大为减小。 二维晶体:这种晶体仅一个原子那么厚,这种晶体从本质上来讲更象上一种巨大的二维分子, 晶体性质稳定可以用来制造晶体管和传感器。 黑磷:黑色有金属光泽的晶体, 它是用白磷在很高压强和较高温度下转化而形成的。 在磷 的同素异形体中反应活性蕞弱的,它在空气中不会点燃。其使用价值不大。

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