中商情报网讯：溅射靶材是电子及信息产业、液晶显示器、光学等行业必不可少的原材料。随着全球半导体行业景气度向上，晶圆厂资本开支持续走高，以高纯靶材为代表的半导体材料需求持续旺盛。

　　中国溅射靶材上游为各种原材料，包括金属、合金、陶瓷化合物；中游主要为靶材制造、溅射镀膜；下游广泛应用于半导体芯片、平面显示、信息存储、太阳能电池、智能玻璃等。

　　中国溅射靶材产业链上游金属上市企业包括新疆众和、天山铝业、铜陵有色、安宁股份、中环股份等，合金企业包括江赣锋锂业、兴业矿业、浙富控股、厦门钩业、寒锐钻业等。

　　中游的溅射靶材企业主要为日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯、有研新材、金钼股份、新疆众和、隆华科技、江丰电子、康达新材、阿石创、超卓航科等。

　　下游集成电路企业包括中芯国际、长电科技、韦尔股份、通富微电、华天科技等，太阳能电池企业包括通威股份、隆基绿能、天合光能、晶科能源、TCL中环等。

　　2021年国内共生产高纯铝14.6万吨，同比增长9.77%，根据数据统计，2016年中国的高纯铝产量为11.8万吨，2020年增至13.3万吨，年均复合增长率为3.0%。2021年全球经济复苏叠加新能源汽车需求爆发，下游需求旺盛，高纯铝产量再创新高。预计2022年高纯铝产量将继续保持增长，将达15.4万吨。

　　以纯铜或铜合金制成各种形状包括棒、线、板、带、条、管、箔等统称铜材。近年来中国铜材产量整体保持增长趋势，2022年9月中国铜材产量222.1万吨，同比增长9.5%；1-9月累计产量1636.6万吨，同比下降0.5%。

　　在经济快速发展以及技术创新推动下，我国芯片、光伏高新技术产业获得快速发展，随着市场需求不断释放，溅射靶材行业规模将进一步扩大。在应用需求带动下，我国溅射靶材市场规模不断扩大。2021年我国溅射靶材市场规模达375.8亿元，同比增长9.7％。

　　中国高性能溅射靶材行业在国家战略政策支持以及下游众多应用领域需求的支撑下，行业技术不断突破，产品性能不断提升，带动高性能溅射靶材市场规模不断扩大。中国高性能溅射靶材市场规模由2016年的98.9亿元增长至2020年的201.5亿元，年均复合增长率为19.47%，预计2022年市场规模将达288.1亿元。

　　中国已成为世界上蕞大的铟靶材需求国。2019年至2021年，我国ITO靶材市场容量从639吨增长到1002吨，年复合增长率为25.22%。未来2-3年内，虽然国内平面显示行业的固定资产投资增速将有所放缓，但由于平面显示行业存量需求及太阳能光伏电池的增量需求，国内ITO靶材市场容量仍将保持一定幅度的增长。预计2022年能达到1067吨，2024年达到1207吨。

　　数据来源：中国光学光电子行业协会液晶分会、中商产业研究院整理

　　全球靶材市场呈寡头竞争格局，日美在高端溅射靶材领域优势明显。目前，全球溅射靶材市场主要有四家企业，分别是JX日矿金属、霍尼韦尔、东曹和普莱克斯，市场份额分别为30%、20%、20%和10%，合计垄断了全球80%的市场份额。

　　随着消费电子等终端应用市场的飞速发展，靶材的市场规模日益扩大，呈现高速增长的势头。溅射靶材下游应用领域广泛，在平面显示、信息存储、光伏电池、半导体芯片等行业被广泛应用，占比分别为34%、29%、21%、10%。

　　靶材是磁控溅射沉积薄膜的材料源，目前以金属材质靶材在半导体芯片行业中应用蕞广泛。半导体芯片用金属溅射靶材的作用，是给芯片制作传递信息的金属导线。中国集成电路市场规模由2016年的4336亿元增长至2021年的10458亿元，年均复合增长率为19.3%，预计2022年市场规模将达12036亿元。

　　数据来源：中国半导体行业协会、中商产业研究院整理

　　光伏电池为溅射靶材终端应用领域之一,光伏靶材主要用于制备光伏电池片中所需要的薄膜，制备太阳能电池较为常用的溅射靶材包括铝靶、ITO靶、AZO靶等，纯度要求一般在99.99%以上。中国光伏电池产量由2016年的7681万千瓦增长至2021年的23405.4万千瓦，复合年均增长率达24.96%。中商产业研究院预测，2022年我国光伏电池产量可达27875.3万千瓦。

　　数据来源：国家统计局、中商产业研究院整理

　　更多资料请参考中商产业研究院发布的《中国溅射靶材市场前景及投资机会研究报告》，同时中商产业研究院还提供产业大数据、产业情报、行业研究报告、行业白皮书、商业计划书、可行性研究报告、园区产业规划、产业链招商图谱、产业招商指引、产业链招商考察&推介会等服务。

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